Устройство для нанесения покрытия с помощью магнетронного ионного напыления постоянного тока или РЧ высокого вакуума, используемое для изготовления перовскитных солнечных элементов

Менеджер по продажам: Джиа
Электронная почта: Gia@tmaxlaboratory.com
Wechat: Динцюна

Пункт №.:
TMAX-650MH
:
CE Certified

Связаться с нами

Подробная информация о продукте

Покрытие с помощью магнетронного ионного напыления постоянного тока или ВЧ высокого вакуума, используемое для изготовления перовскитных солнечных элементов

Введение

Высокий вакуум Аппарат для нанесения магнетронно-ионного напыления идеален и предназначен для материаловедения и подготовки образцов. Он широко используется в большинстве университетов и научно-исследовательских институтов материаловедения и техники для нанесения покрытий на металлы, керамику, полупроводники, изоляторы или другие виды подготовки мембранных материалов.

Магнитронно-ионное распыление в высоком вакууме обеспечивает наиболее стабильную среду распыления и обеспечивает основные экспериментальные условия магнетронного распыления за очень короткий период времени. Он обеспечивает два варианта мощности распыления постоянным и радиочастотным током, которые позволяют распылять проводящие или непроводящие вещества на образец и улучшают производительность физического осаждения из паровой фазы (PVD). Он также отлично подходит для обработки поверхности и нанесения покрытий. Он прост в эксплуатации и удобен в использовании.

Вакуумный насос и охладитель включены.

Параметр

Вакуум pump set	(Oтребуется масло) rвращающийся vакуум pump+(oил бесплатно) turbo mолекулан pнабор насоса
Роторный pнасос sскорость	50 Гц: 16 м³/ч (4,4 л/с)/ 60 Гц: 19,2м³/ч (5,2 л/с)
Молекулярный pнасос сскорость	300 л/с
Вакуум лимит	5x10-5Па
Рабочее pдавление	0,5-5 Па
Пылесосим тименя	10 мин(10-3Па)
Вакуум ммера	Диапазон измерения от атмосферы до 1*10Па
Газ cконтроль	Газ fнизкий cконтроллер
Камера размеровразмер	Ï260*200мм (высота) миталь
Магнетрон tцель sисточник	Размер мишени Ï 50*3 мм(Cu)/tисточник мишени: weak mмагнитное sвещество /мматериалы
Операция mспособ	Инструкцияl
Вес/размерразмер	100 кг/610 мм длина x ширина 420 мм x высота 490 мм
Питание систочник питания	110 В переменного тока, 60 Гц или 220 В переменного тока, 50 Гц
Мощность cпотребление	<3000Вт
Охлаждение мспособ	Воздух cохлаждение(pнасос)+ wат cохлаждение(sпаттеринг tцель)
Гарантия	Ограниченная гарантия на один год с пожизненной поддержкой продуктаt

Горячие Теги :

DC Sputtering Coater RF Ion Sputtering Coater Vacuum Sputtering Coater Coater for Perovskite Solar Cells RF Sputtering Coater High Vacuum Coater

Категории

Новые продукты